合光申请光掩模版缺陷检测专利，缩短检测时长

合光申请光掩模版缺陷检测专利，缩短检测时长

金融界2025年4月1日消息，国家知识产权局信息显示，合光光掩模科技（安徽）有限公司申请一项名为“光掩模版缺陷检测方法、系统及计算机可读介质”的专利，公开号CN119738419A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种光掩模版缺陷检测方法、系统及计算机可读介质，属于光掩模版领域。该光掩模版缺陷检测方法包括提供一光掩模版，所述光掩模版包括图形区和不透光区通过检测机台设定图形区和不透光区的检测参数，包括设定图形区穿透光的感度为V1，反射光的感度为V2，同时设定不透光区穿透光的感度为V3，反射光的感度设为0，其中，V1、V2和V3均不等于0，且V3小于V1。基于设定的图形区和不透光区的检测参数，打开检测光源对光掩模版进行扫描检测。本发明通过将不透光区的反射光的感度设置为0，可以通过检测机台对图形区和不透光区同时扫描检测，不仅缩短了检测时长，还解决检测机台漏抓缺陷的问题。

天眼查资料显示，合光光掩模科技（安徽）有限公司，成立于2023年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本163300万人民币，实缴资本65150万人民币。通过天眼查大数据分析，合光光掩模科技（安徽）有限公司参与招投标项目143次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可17个。

本文源自：金融界

作者：情报员

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